晶圓代工龍頭台積電下半年全力衝刺 5 納米量產，明年還展開 3 納米生產線建置，台積電已成為全球擁有最大極紫外光（EUV）產能的半導體大廠，臺灣因此成為全球 EUV 曝光機最大市場。微影設備大廠荷商 ASML 在南科設立荷蘭以外的首座 EUV 全球技術培訓中心 20 日開幕啟用，就近支援台積電及亞太地區客戶。

積電中科 Fab 15 廠及竹科 Fab 12 廠都有建置 EUV 曝光機設備，主要提供 7+納米及 6 納米晶圓代工，南科 Fab 18 廠是針對 5 納米及 3 納米打造的超大型晶圓廠（GigaFab），亦是台積電 EUV 微影全制程廠區。台積電下半年 5 納米進入量產，明年開始建置 3 納米生產線，對於 EUV 曝光機需求大增。據瞭解，台積電 Fab 18 廠現階段已安裝 18 台 EUV 曝光機，成為全球擁有最大 EUV 產能的半導體廠。

台積電看好 5 納米及 3 納米等先進制程未來幾年強勁需求，今年資本支出已提高至 160～170 億美元，代表對持續增加 EUV 曝光機採購量。EUV 設備大廠 ASML 為了服務大客戶台積電，並就近支援亞太區其它客戶，選擇在南科設立荷蘭以外的首座 EUV 全球技術培訓中心。

ASML 全球副總裁暨臺灣區總經理陳文光 20 日在培訓中心開幕典禮指出，2010 年 ASML 提供第一台 EUV 微影設備原型機給台積電進行研發工作，為全球微影技術開創新紀元。2017 年 ASML 交付第一台量產型 EUV 微影系統給台積電，寫下商用 EUV 制程技術的新里程。臺灣 EUV 曝光機裝機規模已領先全球，ASML 在南科成立 EUV 全球技術培訓中心，為臺灣半導體產業提供更完整的服務。

ASML 重申看好 EUV 曝光機台出貨，今年 EUV 設備產能可支援 35 台出貨量，明年可望再增加至 45～50 台。由於晶圓代工廠及 IDM 廠在 7 納米及更先進制程需要大量採用 EUV 技術完成晶圓光罩曝光制程，DRAM 廠也開始導入 EUV 技術，隨著台積電、三星、英特爾、SK 海力士等國際大廠開始量產，法人看好 EUV 機台次系統模組代工廠帆宣、極紫外光光罩盒（EUV Pod）供應大廠家登等直接受惠，訂單能見度看到年底。

同時，台積電亦藉由乾式 EUV 光罩潔淨技術的創新，自 2018 年導入試產迄今，有效減省水、化學品等能資源使用量，大幅縮短光罩保修頻率與時間，除使光罩使用率躍升超過 80％，亦延長先進制程 EUV 光罩壽命，累計創造的改善效益達新臺幣 20 億元。台積電已於今年於 Fab 12B 廠、Fab 15B 廠、Fab 18 廠自動化系統導入量產，優化乾式 EUV 光罩技術可分析與清潔小於 50 納米落塵。

資料來源: 工商時報