因為荷蘭ASML公司的EUV光刻機，開機一天單是光源這項能耗就要3萬度電。

極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術——具體為採用波長為13.4nm 的紫外線。

為了達到更高的精度，更細的光刻線路，極紫外光從光源出發，需要經過十幾次反射。因為極紫外光它能被很多材料吸收，包括空氣以及折射透鏡。所以，到達晶圓的時候，只剩下不到2%的光線了。目前ASML公司的EUV的極紫外光光刻機的輸出功率是 250 瓦，要達到這樣的輸出功率，需要0.125萬千瓦的電力輸入才能維持。也就是說，極紫外光EUV 的能源轉換效率只有 0.02% 左右，一台輸出功率為250W的EUV光刻機工作一天，光是光源這一項，就會消耗3萬度電。