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全球晶圓代工龍頭台積電今年 7 月 16 日的法說會上提到，為了應付客戶對 5 納米等先進制程的強烈需求，將今年度資本支出上調至 160~170 億美元，全球獨家供應極紫外光（EUV）微影光刻設備的荷商半導體設備商艾司摩爾（ASML）斥資 1350 萬歐元，于南科成立 EUV 全球技術培訓中心，直接協助台積電在南科 18 廠的晶片生產，並預計 3 年內在臺灣的研發團隊從 280 人擴至 500 人。

ASML 表示，將一個新手工程師培育成為技術熟稔、可獨自作業的 EUV 工程師，需經 18 個月的訓練。隨著新冠肺炎疫情讓全球差旅工作增添許多限制與不確定性，ASML 在台南設立 EUV 全球技術培訓中心，為臺灣 ASML 與客戶提供了一個相對安全且經濟的培訓方式，有別於過去所有的工程師，都要前往 ASML 荷蘭總部接受長達數月的培訓。

台積電去年的營運報告提到，該公司以 7 納米 EUV 微影技術的強效版制程（N7+），協助助客戶產品大量進入市場，N7+奠基於台積電成功的 7 納米制程之上，N7+也成為台積電史上量產速度最快的制程之一，顯示 ASML 所提供的 EUV 設備，成為台積電 7 納米制程獲得巨大成功，並甩開與競爭對手的技術差距關鍵。

據 digitimes 報導，目前台積電光是 1 台要價 1.2 億歐元 EUV 設備，就已經採購 30 台，約耗費 1040 億元新臺幣的資本支出。若以 5 納米、3 納米制程為主的 EUV 設備，當中使用 20 多台，隨著 2 納米制程投入研發，台積電預計會擴大下單幅度。相較于競爭對手三星電子，目前使用在晶圓代工上的 EUV 設備不到 20 台，英特爾更是近年 10 納米制程發展受阻，採購量遠遠不及台積電、三星。

在陸美爭奪科技霸權之下，川普政府率先針對大陸科技公司下手，尤其斷絕以半導體生產為主的美企供應鏈，讓國內不得不加快半導體自主化的腳步，根據國務院日前發佈報告指出，大陸半導體自給率在去年達 30%。

ASML 今年第 2 季淨銷售額 33.26 億歐元、季增 35%；淨收入 7.51 億歐元，季增近 1 倍，寫下不錯表現，加上台積電產能滿載，預料 ASML 能靠著台積電的龐大需求維持營運動能，Q3 營運能利預估能恢復以往水準，2020 年預計將呈現正成長。