金屬蝕刻液
品化科技為台灣金屬蝕刻液的專業供應商。
品化科技提供高品質的蝕刻液。主要客戶為各大學院校、研究單位、國內半導體光電大廠。
應用於半導體製程、高階 IC 封裝、光電產業、矽晶圓薄化/粗化/光化/應力去除等製程。 品化科技對應各種製程應用的需求，可提供不同蝕刻率或客製化的產品。
適用於 wet bench 與 spin tool 機台
可少量 or 小包材(1加侖)出貨，歡迎各大院校和研究單位來電詢問!
品質穩定＆價格實惠
🚩 銅(Cu) 蝕刻液 (庫存充足) (台灣製造)
🚩鈦(Ti) / 鈦鎢(TiW)蝕刻液 (庫存充足) (台灣製造) (不含HF)
🚩 金(Au) 蝕刻液 (KI & KCN系列) (庫存充足) (台灣製造)
🚩 鋁(Al) 蝕刻液 (庫存充足) (台灣製造)
🚩 氧化銦錫(ITO) 蝕刻液 (庫存充足) (台灣製造)
🚩 鎳(Ni) 蝕刻液 (庫存充足) (台灣製造)
🚩 鉻(Cr) 蝕刻液-硝酸銨鈰系列 (庫存充足) (台灣製造)
■鉬(Mo)蝕刻液 SDS
■銀(Ag) 蝕刻液 (目前沒貨)
■矽(Si) 蝕刻液
■不鏽鋼蝕刻液
■ 金屬表面粗化液
■ 客製化需求金屬蝕刻液
■觸控面板玻璃蝕刻液
防眩光(Anti glare,AG) 玻璃是在玻璃表面，蝕刻出凹凸結構，讓光散射，達到防眩光效果的特殊玻璃。
金屬蝕刻液 蝕刻速率參考
Product | Application | Product Name | Etching rate (Å /sec) | Operate temperature | Note |
CuR-Series | Cu etch | CuR-7520 | 150-250 | 25-30℃ | Two-agent type |
CuR-8000 | 150-200 | 25-30℃ |
| ||
CuR-9000 | 200-250 | 25-30℃ |
| ||
CuR-9030 | 250-350 | 25-30℃ |
| ||
TiR-Series | Ti etch | TiR-2051B | 20-30 | 25-30℃ |
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TiR-3051B | 30-40 | 25-30℃ | |||
TiR-8051B | 60-80 | 25-30℃ | |||
TiW etch | TiR-9214W | 5-10 | 25-30℃ |
| |
AuR-Series | Gold etch | AuR-1091 | 15-20 | 25-30℃ |
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AuR-3091A | 40-50 | 25-30℃ | Non attack AI | ||
AuR-7091A | 50-70 | 25-30℃ | Non attack AI | ||
AIR-Series | AI etch | AIR-77419 | 80-100 | 45-60℃ |
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AIR-16112 | 100-130 | 45-60℃ | |||
AIR-85213 | 150-200 | 45-60℃ | |||
AIR-2100 | 150-200 | 45-60℃ | |||
AIR-2620 | 50-80 | 45-70℃ | AICu etch | ||
ITO-Series | ITO etch | ITO etch-A15 | 10-15 | 50-70℃ |
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CuNiV-Series | CuNiV etch | Nie-7520 | 150-200 | 25-30℃ | One-agent type |
Sn/Ag-Series | Sn/Ag etch | Sn/Ag-99 | - | 25-30℃ |
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NiR-Series | Ni etch | NiR-0363 | 100-150 | 25-30℃ | Non attack AI |
NiR-7520 | 200-250 | 25-30℃ | Non attack AI | ||
CrR-Series | Cr- etch | CrR-018 | 50-100 | 45-60℃ |
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RS-Series | Roughness | RS-118 | - | 25-30℃ | Surface RMS |
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Au金蝕刻液SDS
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